Παρουσίαση ειδικών και προχωρημένων διεργασιών στην αφαίρεση επίμονων χημικών ουσιών από τα υγρά απόβλητα με τεχνολογίες όπως προσρόφηση, αντίστροφη ώσμωση, οξειδωτικά συστήματα με βάση το όζον (O3), το υπεροξείδιο του υδρογόνου (H2O2), την υπεριώδη ακτινοβολία (UV) και τον συνδυασμό αυτών, την χρήση του αντιδραστηρίου Fenton και Photo-Fenton, η νανοτεχνολογία, η σπηλαίωση και ο συνδυασμός υπερήχων και φωτοκατάλυσης. (Θεωρία δύο (2) ώρες, Εργαστήριο (1) ώρα).